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半導体用シリルカガラスは製品タイプによって主要な供給企業が異なります。本記事では、タイプ別の違いを踏まえながら半導体用シリルカガラス市場の世界シェアと主要企業を整理します。
半導体用シリルカガラスの主な製品タイプ
- 高温プロセス
- 低温プロセス
タイプ別に見た供給構造
半導体向けシリカガラス市場は、主に「高温プロセス用」と「低温プロセス用」の二つの製品タイプに分かれています。高温プロセス用のシリカガラスは、半導体製造における拡散や酸化工程など、摂氏1000度を超える極めて高い熱環境に耐える必要があります。そのため、熱膨張率が極めて低く、不純物含有量が最小限に抑えられた高純度合成シリカが使用され、熱による歪みや変形を防ぐ高度な製造技術が不可欠です。一方、低温プロセス用は主にエッチングやCVDなど比較的低い温度で行われる工程に用いられ、透過率の均一性や耐プラズマ性が重視されます。このように要求される技術的要素が根本的に異なるため、サプライヤーは自社のコア技術や設備投資の方向性に合わせて専門化する傾向があります。高温用には特殊な溶融技術や超高純度化技術に強みを持つ企業が参入し、低温用には精密加工やコーティング技術に特化した企業が市場を形成しており、両分野間での技術の互換性が低いことが専門化を促進しています。
主要な供給企業
- Heraeus
- Tosoh Quartz Corporation
- Shin-Etsu
- Schunk
- MARUWA
- Hanntek
- Ustron
- Beijing Kaide
- Shanghai QH Quartz
- Ferrotec
- GL Sciences
- Ningbo Yunde
- Huzhou Dongke
- Zhejiang Hongxin
各社が強いセグメント
半導体製造におけるシリカガラスサプライヤーのセグメントリーダーシップについて、高温プロセス分野ではヘレウスと信越が世界的に最も高い地位を占めており、両社は高純度溶融石英と耐熱性に優れた製品でエピタキシャルや拡散炉の部品に強みを持ちます。トーソー石英もこの分野で重要なプレーヤーであり、特に日本市場で高い信頼を獲得しています。一方、低温プロセス分野ではMARUWAとFerrotecがエッチングやCVD装置向けの高精度部品でリードし、SchunkやGL Sciencesも特殊な形状の石英ガラスで追随します。中国勢では北京凱徳や上海QH石英が高温プロセスでのコスト競争力で存在感を示し、寧波雲徳や湖州東科、浙江鴻鑫は低温プロセス向けに需要を伸ばしています。ハンテックとウストロンは両セグメントで技術的な差別化を図りながら中堅市場で一定のシェアを確保しており、全体的に欧日系が高耐熱高純度で、中国勢が価格と量でそれぞれのポジションを確立しています。
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